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EUV光刻

EUV光刻太贵了:替代技术正加快速度转正

EUV光刻太贵了:替代技术正加快速度转正

科学 12738
     随着芯片法案宣布将补贴美国半导体研发和制造500多亿美元,人们对芯片制造技术的基本现状产生了极大的兴趣。目前,三星5纳米工艺(指定为5LPE)就是向全球市场提供先进芯片制造技术的其中之一,这代表了三星finFET技术取得了重大突破,未来势必会更进一步,以更低的成本在芯片...