清华大学官宣！EUV光刻胶材料取得重要进展 科学 2025-07-25 358 快科技7月24日消息，据清华大学官网介绍，日前，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为先进半导体制造中的关键材料提供了新的设计策略。随着集成电路工艺向7nm及以下节点推进，13.5nm波长的EUV光刻成为核心技术。但EUV光源反射损耗大、亮... 阅读全文
